Objet et domaine d'application
L'utilisation du procede dans le domaine d'emploi propose est appreciee favorablement. La resistance thermique du support est limite a 2 m 2³C/W en systeme apparent.
L'utilisation du procede dans le domaine d'emploi propose est appreciee favorablement. La resistance thermique du support est limite a 2 m 2³C/W en systeme apparent.